ICC訊 2020年5月30日,聯(lián)合微電子中心(CUMEC)在重慶向全球發(fā)布“180nm成套硅光工藝PDK”,標(biāo)志著聯(lián)合微電子中心具備硅基光電子領(lǐng)域全流程自主工藝制造能力,正式向全球提供硅光芯片流片服務(wù)。
網(wǎng)站:https://service.cumec.cn/schedule
1. 硅光MPW流片日程安排(MPW Schedule)
CUMEC硅光第一批有源流片預(yù)定6月30日注冊(cè)截至,還有部分空位,預(yù)訂從速!
2、工藝技術(shù)(Technology)
CUMEC硅光工藝平臺(tái)基于8英寸(200mm) CMOS工藝,憑借先進(jìn)的248nm DUV光刻技術(shù),實(shí)現(xiàn)180nm工藝節(jié)點(diǎn),目前CUMEC硅光工藝平臺(tái)提供的工藝技術(shù)包括:
3、基礎(chǔ)器件(Baseline Block)
4、流程
簽署NDA
登錄網(wǎng)站https://service.cumec.cn/下載CUMEC CSiP180Al NDA文件,并完成信息填寫(xiě)和簽署。
獲取PDK
請(qǐng)將掃描件發(fā)送至service@cumec.cn
工作人員將在3個(gè)工作日內(nèi)完成NDA文件的審核和反饋,并發(fā)送PDK到注冊(cè)郵箱。
注冊(cè)流片
發(fā)郵件至service@cumec.cn注冊(cè)流片,我方工作人員會(huì)與您確認(rèn)流片信息。
CUMEC簡(jiǎn)介:
聯(lián)合微電子中心有限責(zé)任公司(簡(jiǎn)稱(chēng)CUMEC公司)是重慶市政府重磅打造的國(guó)家級(jí)國(guó)際化新型研發(fā)機(jī)構(gòu),于2018年10月在重慶注冊(cè)成立,首期投資超100億元。CUMEC公司針對(duì)國(guó)家微電子行業(yè)高端發(fā)展的需求,著力打造集技術(shù)、產(chǎn)品和工藝為一體的光電融合高端特色工藝,以硅基光電子、異質(zhì)異構(gòu)三維集成、鍺硅射頻等工藝技術(shù)和產(chǎn)品技術(shù)為核心,聚焦“后摩爾時(shí)代”世界集成電路發(fā)展主流趨勢(shì),探索“超越摩爾”的行業(yè)發(fā)展模式,匯聚海內(nèi)外一流集成電路人才,打造國(guó)際一流的集成電路研發(fā)中心。
新聞來(lái)源:CUMEC服務(wù)平臺(tái)