CUMEC公司超厚氧化膜生長(zhǎng)工藝技術(shù)取得突破

  ICC訊 為滿足SIN波導(dǎo)開(kāi)發(fā)需求，今年5月開(kāi)始CUMEC公司組織開(kāi)展了“微米級(jí)超厚高質(zhì)量氧化膜生長(zhǎng)工藝”核心技術(shù)的自主研發(fā)攻關(guān)，并于近日取得重大突破。

  在半導(dǎo)體制造業(yè)，微米級(jí)超厚高質(zhì)量氧化膜生長(zhǎng)工藝是一個(gè)高難度的非常規(guī)工藝。對(duì)于CUMEC公司新建的8吋工藝平臺(tái)來(lái)說(shuō)，國(guó)內(nèi)沒(méi)有類似的工藝可供參考，更得不到外界的技術(shù)支持，一切都需要從零開(kāi)始。新工藝的研發(fā)是艱難的，需要進(jìn)行大量的單項(xiàng)工藝試驗(yàn)，工藝開(kāi)發(fā)從來(lái)都不是一帆風(fēng)順的，CUMEC工程師們廢寢忘食，或查詢文獻(xiàn)資料，或向資深工程師請(qǐng)教，或多模組配合開(kāi)展頭腦風(fēng)暴，大家心往一處想、智往一處謀、勁往一處使，經(jīng)過(guò)近60個(gè)日夜的奮戰(zhàn)，微米級(jí)的高質(zhì)量氧化膜的首批樣片終于制備完成，標(biāo)志著CUMEC公司在特殊原料替代進(jìn)口、降低成本的道路上邁出了關(guān)鍵的一步。

  在CUMEC公司發(fā)展的道路上，不會(huì)一帆風(fēng)順，還會(huì)遇到很多的新問(wèn)題、新挑戰(zhàn)，但CUMEC人相信機(jī)遇與挑戰(zhàn)并存，抓住機(jī)遇，克服困難、迎接挑戰(zhàn)，CUMEC的發(fā)展道路定會(huì)越走越寬。