ASML發(fā)布關(guān)于荷蘭增加出口管制的聲明：并不適用于所有浸入式光刻設(shè)備

  ICC訊  荷蘭政府周三表示，計(jì)劃對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的限制以保護(hù)國(guó)家安全，加入美國(guó)遏制對(duì)華芯片出口的行列。

  荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML隨后在官網(wǎng)發(fā)布了關(guān)于增加出口管制的聲明。

  以下為聲明全文：

  今天，荷蘭政府發(fā)布了更多關(guān)于即將出臺(tái)的半導(dǎo)體設(shè)備出口限制的信息。這些新的出口管制主要針對(duì)先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積和浸沒式光刻工具。

  由于這些即將出臺(tái)的法規(guī)，ASML將需要申請(qǐng)出口許可證才能裝運(yùn)最先進(jìn)的浸沒式DUV系統(tǒng)。

  這些控制措施要轉(zhuǎn)化為立法并生效還需要時(shí)間。

  基于今天的公告、我們對(duì)荷蘭政府許可政策的預(yù)期以及目前的市場(chǎng)形勢(shì)，我們預(yù)計(jì)這些措施不會(huì)對(duì)我們發(fā)布的2023年財(cái)務(wù)前景或去年11月投資者日期間宣布的長(zhǎng)期情況產(chǎn)生重大影響。

  在這方面，重要的是要考慮到額外的出口管制并不適用于所有的浸入式光刻工具，而只適用于所謂的“最先進(jìn)的”。雖然ASML沒有收到任何關(guān)于“最先進(jìn)”的確切定義的額外信息，但ASML將其解釋為“臨界沉浸式”，ASML在我們的資本市場(chǎng)日中將其定義為TWINSCAN NXT:2000i和后續(xù)的沉浸式系統(tǒng)。此外，ASML指出，主要關(guān)注成熟節(jié)點(diǎn)的客戶可以使用不太先進(jìn)的浸入式光刻工具。最后，阿斯麥的長(zhǎng)期設(shè)想主要是基于全球長(zhǎng)期需求和技術(shù)趨勢(shì)，而不是詳細(xì)的位置假設(shè)。

  值得提醒的是，自2019年以來，ASML的EUV工具的銷售已經(jīng)受到限制。