中國企業(yè)擬與尼康和佳能共同開發(fā)光刻機！

  ICC訊  據(jù)日經(jīng)新聞指出，隨著美國的封鎖和打壓，從長遠(yuǎn)來看，美國的封鎖反而可能會助推中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展。報道以美國限制華為、中芯國際的供應(yīng)鏈為例指出，盡管有美國政府的出口限制，但中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍可迂回以對。

  中國有1000多家新興的半導(dǎo)體相關(guān)公司，如果華為和中芯國際從這些公司購買進口的半導(dǎo)體芯片、設(shè)計軟件以及生產(chǎn)設(shè)備，實際上就可以進行半導(dǎo)體采購并擴充制造設(shè)備。

  對此，Synopsis共同執(zhí)行長Aart de Geus表示，“在中國有很多半導(dǎo)體相關(guān)企業(yè)(除華為外)都在大量購買(設(shè)計軟件)?！边@種情況意味著無法避免中國國內(nèi)的轉(zhuǎn)售。

  另外，日經(jīng)指出，聯(lián)發(fā)科對美國的銷售額很少，該公司現(xiàn)在雖已停止對華為出貨，但也有可能會繼續(xù)接受華為的訂單并準(zhǔn)備接受美國制裁。聯(lián)發(fā)科可以在不透露最終用戶詳細(xì)信息的情況下進行訂單生產(chǎn)，臺積電同樣可以。

  短期內(nèi)，美國施行出口限制的效果仍然值得懷疑，而就中長期而言，貿(mào)易管制是否會讓美國、日本和歐洲繼續(xù)保持其半導(dǎo)體技術(shù)的優(yōu)勢，也還是一個未知數(shù)。

  更重要的是，與芯片平面上的精細(xì)化相比，3D堆疊技術(shù)正在成為延續(xù)摩爾定律的主角?；诖?，光刻機已然成為影響全球科技競爭的又一大重大因素。

  目前，全世界只有荷蘭的ASML可以制造EUV光刻機。而大部分基礎(chǔ)技術(shù)的知識產(chǎn)權(quán)都由美國把持，因此荷蘭政府此前宣布不允許ASML向中國出口EUV設(shè)備。

  不過，若是EUV以外的光刻機，日本的尼康和佳能也可以制造。業(yè)界有關(guān)人士表示：“中國企業(yè)擬向兩家日本公司提供資金，要求共同開發(fā)除EUV以外的新型光刻機?！贝送猓袊查_始著手開發(fā)制造設(shè)備和設(shè)計軟件。

  值得一提的是，去年11月，日本半導(dǎo)體巨頭爾必達原社長坂本幸雄就職紫光集團的高級副總裁，引發(fā)業(yè)界熱議。除了技術(shù)攻堅，中國目前也不惜重金吸引資深半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)人士。

  本文轉(zhuǎn)載自：中國半導(dǎo)體論壇