國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心攜手蘇州伊歐陸聯(lián)合發(fā)布硅光晶圓測(cè)試解決方案

  ICC訊 硅光技術(shù)是指研究和利用硅材料中的光子、電子、及光電子器件的工作機(jī)理和光電特性，采用CMOS兼容的微納米加工工藝，在硅晶圓上開發(fā)制備光電子芯片的技術(shù)。硅光芯片既擁有集成電路技術(shù)的超大規(guī)模、超高精度制造的特性，還具有光子技術(shù)超高速率、超低功耗的優(yōu)勢(shì)，是光電子與微電子融合的重要發(fā)展方向，在新一代通信、數(shù)據(jù)中心、超級(jí)計(jì)算機(jī)、消費(fèi)電子、生物醫(yī)療、量子技術(shù)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。近年來，在全球通信設(shè)備商、光器件廠商、半導(dǎo)體企業(yè)的共同推動(dòng)下，硅光芯片已經(jīng)在光通信和數(shù)據(jù)中心設(shè)備中實(shí)現(xiàn)商業(yè)應(yīng)用，硅光產(chǎn)業(yè)鏈也日臻成熟。然而，面對(duì)硅光芯片集成度和復(fù)雜日益增高、需求量迅猛增長(zhǎng)、成本預(yù)算不斷縮減等趨勢(shì)，硅光測(cè)試測(cè)量技術(shù)和方法已成為限制硅光產(chǎn)業(yè)發(fā)展的一大短板，是困擾硅光子產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)海量出貨的主要難題。

  國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心(NOEIC)是國(guó)內(nèi)最早探索硅基光電子測(cè)試測(cè)量解決方案的單位之一，在硅光子技術(shù)上耕耘多年，積累了豐富的設(shè)計(jì)與測(cè)試經(jīng)驗(yàn)，已形成一套完整可靠的晶圓級(jí)自動(dòng)化硅光子測(cè)試方案，能支持各類無源波導(dǎo)器件、高速調(diào)制和探測(cè)、熱光和電光調(diào)諧器件、片上光源等各類元器件特性的快速精準(zhǔn)分析，并開始向重要的產(chǎn)業(yè)客戶和晶圓廠提供服務(wù)。

  蘇州伊歐陸系統(tǒng)集成有限公司(Eoulu)是一家致力于半導(dǎo)體晶圓在片測(cè)試測(cè)量的高科技公司，在半導(dǎo)體和光電測(cè)試領(lǐng)域有著豐富的經(jīng)驗(yàn)，目前為客戶完成的在片測(cè)試測(cè)量解決方案已超過50個(gè)，可以為客戶提供可信賴的高效的晶圓在片測(cè)試測(cè)量服務(wù)。

  為加快推動(dòng)硅光子技術(shù)產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，建立健全硅光產(chǎn)業(yè)鏈，國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心與蘇州伊歐陸公司強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合，共同研制出國(guó)內(nèi)首套商用級(jí)8-12英寸硅光晶圓測(cè)試篩選系統(tǒng)，并基于該平臺(tái)開發(fā)了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的硅光測(cè)試測(cè)量方案，并持續(xù)向客戶推出各類靈活、可靠、可升級(jí)的產(chǎn)品和服務(wù)。該解決方案基于成熟可靠的微電子晶圓臺(tái)和精密定位組件，搭建起高效且兼容性高的光電混合測(cè)試系統(tǒng)，基本適用于目前已知的所有硅光子單元器件的測(cè)試測(cè)量。同時(shí)，建立了全程可追溯的數(shù)據(jù)庫，具備大數(shù)據(jù)分析關(guān)聯(lián)測(cè)試結(jié)果和仿真結(jié)果的能力測(cè)試方案具備良好的開源性，可支持多家不同供應(yīng)商的測(cè)試儀表和設(shè)備。數(shù)據(jù)處理算法包含MATLAB與Python兩個(gè)版本。目前基于該系統(tǒng)，單臺(tái)測(cè)試篩選效率可達(dá)3000晶圓/年，測(cè)試速度與國(guó)際同類產(chǎn)品相比高3-5倍，信息化與智能化程度達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。

  此外，NOEIC與Eoulu于2019年合作成立了“集成云測(cè)試聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室”，共同開展晶圓級(jí)在片測(cè)試系統(tǒng)的自動(dòng)化量測(cè)以及數(shù)據(jù)自動(dòng)化處理，提供云端的自動(dòng)測(cè)試、設(shè)備管理、數(shù)據(jù)管理服務(wù)，共同打造智能測(cè)試平臺(tái)。

  NOEIC將繼續(xù)以實(shí)現(xiàn)光電子芯片的“關(guān)鍵和共性技術(shù)協(xié)同研發(fā)”和“國(guó)內(nèi)首次商業(yè)化”為戰(zhàn)略目標(biāo)，秉承“開放、合作、共贏”的發(fā)展理念，誠(chéng)邀國(guó)內(nèi)外產(chǎn)學(xué)研機(jī)構(gòu)進(jìn)行深入合作，探索創(chuàng)新協(xié)作機(jī)制，共同構(gòu)建健康、高效、可持續(xù)發(fā)展的光電子生態(tài)鏈。

  ▲8-12英寸硅光晶圓自動(dòng)化測(cè)試篩選系統(tǒng)

  硅光晶圓測(cè)試解決方案介紹

  自動(dòng)化硅光晶圓測(cè)試方案，可支持目前世界上最主流的光電器件特性分析，涵蓋硅光晶圓和硅光單元器件測(cè)試，測(cè)試類型包括光譜測(cè)試、直流測(cè)試、頻響測(cè)試等，見表1。

  ▲表1 典型光電器件測(cè)試項(xiàng)與測(cè)試類型

  典型測(cè)試分析

  圖1展示硅光晶圓的光譜重復(fù)性測(cè)試結(jié)果。實(shí)測(cè)結(jié)果顯示，在間隔兩個(gè)小時(shí)條件下，12英寸晶圓上不同位置光柵耦合器的光譜響應(yīng)基本完全重合，全波范圍內(nèi)插損最大差異<0.2dB。實(shí)驗(yàn)表明，該測(cè)試系統(tǒng)在長(zhǎng)時(shí)間、全晶圓范圍、全波長(zhǎng)范圍展現(xiàn)了優(yōu)異的一致性和準(zhǔn)確性。

  ▲圖1 300mm硅光子晶圓不同區(qū)域重復(fù)性測(cè)試

  圖2展示基于硅光晶圓測(cè)試系統(tǒng)的工藝誤差分析結(jié)果。通過測(cè)試設(shè)置特定無源結(jié)構(gòu)的光譜特性，可反向分析光波導(dǎo)寬度、刻蝕深度、波導(dǎo)高度等關(guān)鍵尺寸的工藝誤差和統(tǒng)計(jì)分布，為精準(zhǔn)設(shè)計(jì)光子PDK、提升波導(dǎo)器件的良品率提供量化依據(jù)。

  ▲圖2 硅光晶圓的工藝容差分析結(jié)果

  圖3展示了硅基光調(diào)制器(MOD)與鍺硅探測(cè)器(PD)的S21帶寬測(cè)試結(jié)果。本平臺(tái)可快速提取MOD和PD的頻響曲線和mapping分布，利用不同測(cè)試參數(shù)的晶圓相關(guān)性間接甄別失效，為晶圓篩選提供標(biāo)準(zhǔn)量化依據(jù)，降低硅光芯片產(chǎn)品測(cè)試成本。

  ▲圖3 硅光調(diào)制器與探測(cè)器的帶寬分布情況

  2020年6月1日起國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心已經(jīng)通過www.eoululab.com網(wǎng)站，正式對(duì)外提供相關(guān)的硅光電子測(cè)試算法、方案、產(chǎn)品和服務(wù)，感興趣的客戶可以瀏覽網(wǎng)站內(nèi)容和預(yù)約服務(wù)。