報道稱ASML或向中國市場推出特別版光刻機

  ICC訊  據(jù)報道，ASML試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，計劃面向中國市場推出特別版深紫外光刻(DUV)光刻機。

  該工具將符合最新的美國出口規(guī)定，可以在沒有許可證的情況下運給中國客戶。這款設備將使中芯國際(SMIC)和華虹等公司能夠在28納米級及以上制程上制造芯片。

  該特別版光刻機是基于Twinscan NXT:1980Di改造，目前這是臺積電仍在投入生產(chǎn)的最低級別的型號，該機器具備1.35數(shù)值孔徑光學系統(tǒng)，分辨率小于38納米，理論上支持7納米級及更先進的節(jié)點。事實上，這臺光刻機最初于2016年發(fā)布，曾被臺積電用于開發(fā)其7納米級工藝技術。

  報道稱，ASML可以對該設備進行改造，提高其最低支持的分辨率，以防止中芯國際和其他中國芯片制造商制造低于28納米的工藝技術。考慮到中芯國際絕大部分收入來自28納米及以上的生產(chǎn)節(jié)點，中國公司很可能仍然對采購這類工具感興趣。

  根據(jù)最新的出口法規(guī)，美國公司和個人必須獲取許可證才能出口能夠制造14納米/16納米及以下制程的非平面晶體管結構的邏輯芯片、128層及以上的3D NAND以及半間距18納米以下的DRAM存儲芯片的工具和技術。對于從美國出口組件的非美國公司，同樣適用這些規(guī)定，ASML和Twinscan NXT:1980Di也受到限制。

  根據(jù)最新的荷蘭出口規(guī)定，ASML需要獲取出口許可證才能向中國公司銷售Twinscan NXT:2000i光刻機。ASML尚未正式推出Twinscan NXT的特別版本，但如果出口規(guī)定繼續(xù)限制向中國銷售先進技術，此舉似乎是可能的。