銘普光磁新增一項發(fā)明專利 400G光模塊已小批量供貨

  ICC訊  (編輯：Nicole) 光器件制造商東莞銘普光磁股份有限公司(簡稱：銘普光磁)發(fā)布公告稱：公司近日取得一項由國家知識產(chǎn)權(quán)局頒發(fā)的“一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)”發(fā)明專利證書(專利號：ZL 2018 1 1603013.2，專利類型：發(fā)明專利)。

  該發(fā)明公開了一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)，包括：將光模塊放置在高溫環(huán)境下，當 MCU 溫度指針達到目標工作溫度時，調(diào)節(jié)激光器核心溫度值、偏壓電流值和 VEA 值，使光模塊的光功率、消光比、通道代價滿足目標值;以光模塊中 MCU 溫度指針為索引，根據(jù)服務(wù)器上預(yù)先存儲的數(shù)據(jù)庫中激光器核心溫度值、VEA 值與調(diào)節(jié)后的激光器核心溫度值、VEA 值的對應(yīng)關(guān)系，動態(tài)更新本地數(shù)據(jù)庫中激光器核心溫度值、VEA 值;在常溫和低溫下分別測試光模塊的光功率、消光比和通道代價，若性能正常，則完成參數(shù)配置。

  本申請通過上述步驟將帶 EML 激光器的光模塊在高溫調(diào)試和常溫低溫測試，即能制作成品率高和合格率高的產(chǎn)品。

  銘普光磁表示獲得發(fā)明專利有利于充分發(fā)揮公司自主知識產(chǎn)權(quán)優(yōu)勢，完善知識產(chǎn)權(quán)保護體系，對公司開拓市場及推廣產(chǎn)品產(chǎn)生積極的影響，形成持續(xù)創(chuàng)新機制，提升公司核心競爭力。

  近日，銘普光磁在接待東北證券調(diào)研時表示：公司400G光模塊產(chǎn)品應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心市場，目前已有多家客戶送樣，部分客戶已有小批量供貨。

  對于一些新的領(lǐng)域，如無人駕駛、商業(yè)衛(wèi)星，有跟部分車企進行合作，部分料號已有小批量交貨，但是否用于無人駕駛公司不是很清楚，也暫未參與商業(yè)衛(wèi)星項目。

  關(guān)于銘普光磁

  東莞銘普光磁股份有限公司光電事業(yè)部成立于2009年5月，擁有一支高效的管理團隊以及具備豐富經(jīng)驗的研發(fā)和工藝開發(fā)團隊。在秉承始終為客戶提供高品質(zhì)、低成本的解決方案的理念下，光電事業(yè)部在光電器件和模塊的研發(fā)、生產(chǎn)制造等方面取得了長足的進步并積累了豐富的經(jīng)驗。具有從TO，到光器件，至光模塊以及無源波分系統(tǒng)的垂直整合，以及大規(guī)模生產(chǎn)能力。同時也具備了COB和BOX等高端器件封裝設(shè)計和制造能力。