MaRS公司PIC芯片國內(nèi)流片取得成功

         暨馬爾斯公司8月初完成國內(nèi)第一次芯片代工試驗片流片后，公司第二次國內(nèi)流片取得了圓滿成功。
 
        因公司在晶圓廠建成前，產(chǎn)品的核心部分 - 光電PIC芯片的試車及初期生產(chǎn)將主要以代工方式進(jìn)行。2010年10月中旬，公司派專人到代工方，在前次流片經(jīng)驗基礎(chǔ)上，進(jìn)一步完善工藝。大量測量數(shù)據(jù)表明，此次流片工藝效果已達(dá)到公司在美國硅谷時的水平，在國內(nèi)實現(xiàn)了光電芯片設(shè)計和工藝加工的成功結(jié)合。只經(jīng)過兩次流片就取得這樣令人滿意得結(jié)果，有力地證實了公司PIC芯片設(shè)計的先進(jìn)和合理，以及公司在光電芯片工藝加工領(lǐng)域豐厚的經(jīng)驗和技術(shù)積累。 芯片關(guān)鍵部分PIC filter 測試效果良好，為公司將硅谷先進(jìn)的PIC技術(shù)引入國內(nèi)轉(zhuǎn)產(chǎn)奠定了堅實的基礎(chǔ)，也為接下來公司各種相關(guān)產(chǎn)品的開發(fā)生產(chǎn)提供了有利保障。